2022. 1. 25. 07:32ㆍ주식공부/보유종목
1. 사업내용
- 동사는 전공정(Front-end Process)반도체 소자의 회로 제작 공정에서 발생하는 미소 패턴 결함을 검출하는 웨이퍼 미소 패턴 결함 검사 장비를 제조 및 판매하는 전문기술기업임. 동사가 제조하는 검사장비는 미소 패턴 결함(Pattern Defect)과 이물(Particle)을 광학 이미지 비교방식으로 검출하는 장비로서 반도체 소자 제조 기업의 단위 공정 기술 개발에 기여하는 장비가 있음.
- 2021년 9월 전년동기 대비 연결기준 매출액은 25.4% 증가, 영업이익은 36.6% 증가, 당기순이익은 60.2% 증가. 동사는 세계에서 유일하게 2차원 이미징 기술에 기반한 장비를 개발하였고 이는 세계 최고의 기술력을 가진 KLA사 장비와 동등한 성능을 가짐. 2020년을 기점으로, 국내 및 해외 메모리 소자 업체와 비메모리 소자 업체 등 다양한 판매처를 확보하여 점진적인 매출의 안정성과 성장을 확보
2. 재무평가
3. 투자아이디어
- 검사장비 국산화 및 내재화 가능성 큼
- 업사이드 충분히 큼
- 높은 기술력
4. 주가현황
5. 전망
6. 밸류에이션
https://www.butler.works/reports/report?corp_code=01080252
https://www.butler.works/reports/report?corp_code=01080252
분석할 기업을 입력해 주세요.
www.butler.works
2022.03.08
7. 운용전략
800,000 도달시 분할 매도 시작
100,000원 도달시 전량 매도
작년 3Q 대비 순이익 111.5% 상승을 기록한 반도체 검사장비 제조기업
(한국IR협의회 2021.12.22)
사업 개요
- 반도체 전공정에서 발생하는 미소 패턴 결함을 검출하는 웨이퍼 패턴 검사 장비 제조 및 판매
- 미소 패턴 결함(Pattern Defect)와 이물질(Particle)을 광학(Optical) 이미지 비교 방식으로 검출, 통계적 자료를 제공하여 반도체 양산 수율 확보에 필수적인 장비
- 통상적으로 반도체 공정의 불량율 40%는 미소 패턴 결함과 이물질로부터 발생
웨이퍼 미소 패턴 검사 장비 개요
● 전자선 검사 장비(E-beam Inspection System) vs. 광학 검사 장비(Optical Inspection System)
- 전자선 검사 장비
전자선을 광원으로 사용하여 매우 높은 배율 이미지 촬상 가능(7nm 미만). 그러나 전자선 사용을 위해 초저압, 초저진공을 유지해야하므로 검사 속도가 느려 주로 연구목적으로 사용됨
- 광학 검사 장비
대기압에서 촬상하여 검사 속도가 빨라 산업 현장에서 사용됨. 사용하는 광원에 따라 심자외선(DUV), 자외선(UV), 가시광선(Visible) 장비로 구분
● 이미지 촬상법에 따른 광학 검사 장비 구분, Bright-field 검사 장비 vs. Dark-field 검사 장비
- Bright-field 검사장비
주로 DUV 광원을 사용하며 반사광을 이용하므로 이미지 해상도가 높아 ~15nm 수준 미소 결함까지 검출 가능. 하지만 고해상도 이미지 촬상을 위해 검사 속도가 상대적으로 느리고 비쌈. 주로 첨단 공정에 사용됨.
- Dark-field 검사장비
주로 UV 광원을 사용하며 산란광을 이용하여 해상도 한계 때문에 ~30nm 수준 미소 결함까지 검출 가능. 그러나 검사 속도는 BF에 비해 빠르며 가격이 저렴함. 주로 레거시 공정에 사용됨.
● 넥스틴의 검사 장비
- Bright-field 검사와 Dark-field 검사를 한 장비 내에서 구현하여 검사 목적에 따라 선택할 수 있는 복합 구성 장비(Combo-System)
- 그러나 광원이 DUV이 아니라 UV인 것 같고 주로 레거시 공정에 사용되는 것으로 보임.
시장 분석
● 시장 전망
- 세계 광학 패턴 검사 장비 시장은 2019년 약 3조4천억원 에서 2023년 4조 2천500억원 규모로 성장 전망
- 향후 2~3년간 메모리팹 보다는 파운드리 쪽 장비 투자 규모가 더 큼
- 파운드리 장비 투자는 주로 하이엔드 위주이지만 반도체 공급 이슈로 인해 레거시 공정도 투자 확대 전망
● 경쟁사와의 비교
- 미국 KLA사의 Dark-field 장비가 업계 표준으로 자리잡고 있으며 국내시장 60%, 해외시장 100% 점유율
- KLA사 KLA9980(2018년 출시) vs. 넥스틴사 AEGIS-II(2020년 6월 출시): 검출감도, 검사속도 비슷.
- 일본 Hitachi사의 Dark-field 장비는 국내 삼성전자 및 SK하이닉스 메모리 팹에 사용되고 있으며 수량 기준 국내 점유율 30~40%
- IS-4200(2017년 출시) vs. AEGIS-II(2020년 6월 출시): 검출감도, 검사속도 모두 넥스틴이 앞섬.
- 중요한 공정(Critical)에 업계 표준인 KLA사 장비, 일반 공정은 Hitachi사 장비 사용 중
- SK하이닉스는 2021년부터 Hitachi 장비 구매하지 않고 넥스틴 장비를 구매하기로 함. 삼성전자도 긍정적으로 검토 중
사업 현황 및 계획
● 매출 현황
- 2021년 매출 장비 개수 기준 해외 40%, 국내 60%
- 2021년 매출 장비 개수 기준 DRAM 42%, FLASH 28%, Logic(파운드리) 28%
- 2020.3Q는 코로나로 지연된 물량이 반영되며 매출이 급증한 특이 분기
- 2021년 SMIC를 새로운 고객으로 확보 → 국내 영업에 있어 삼성전자에 장비 납품 여부가 중요하듯이 중국 영업에 있어 SMIC에 장비 납품 여부가 중국 영업에 있어서 중요하므로 큰 의미를 가짐
- 시장 전망이 파운드리쪽이 규모가 훨씬 크므로 Logic 매출 확대하기 위한 노력 중
- 2014년 첫번째 장비를 출시 후 매 2년마다 신규 모델 출시 중 → 2022년 여름 , 신규 모델 AEGIS-III 출시 예정
21.3Q 분기보고서
● 시장 수요 대응
- 삼성전자 대응
공정 난이도가 증가함에 따라 검사 스텝수가 급증하고 있어 검사속도가 빠른 장비를 필요로 함. 출시 예정인 AEGIS-III 장비는 기존 장비에 비해 검사 속도가 약 50% 개선된 모델.
- SK하이닉스 대응
3차원 공정에서 검사가 가능한 장비를 필요로 함. 3차원 공정 검사장비는 인텔과 협력하여 개발 중(IRIS)이며 12월 초 기술성 평가는 완료. 2차원 검사장비는 KLA사의 업계 표준 장비가 있지만 3차원 검사장비는 업계 표준이 없어 성능 평가가 어려운 점이 있음. 하지만 최근 인텔 측에서 평가할 방법을 찾았고 성능 평가를 진행중이며 2022년 1월말~2월초 쯤 결과가 전달될 것으로 기대.
- 중국 반도체 업체 수요 대응
미국 회사 장비는 규제에 대한 부담이 있어 넥스틴에 거는 기대가 큼. 중국 장비 회사와 JV 설립 논의 중이며 2022년 초에 관련 MOU 체결 예정. 중국에 장비 생산시설이 있는 회사의 장비를 구매할 경우 중국 고객사가 보조금을 받을 수 있어 가격 경쟁력이 좋아지기 때문.
美 견제에도 中 반도체 굴기 본격화… DUV 쓸어 담고 중고 장비도 공략 (조선비즈 2021.12.24) 중국 반...
- 첨단 공정 검사 장비 개발
DUV를 광원으로 사용하는 Bright-field 검사 장비(VIORLS 가칭)를 개발 중. 올해 정부 국책 과제에 선정되어 DUV 광원 기술 개발 중. 2023년 개발 완료하고 2024년부터 시장 진입하여 KLA와 경쟁 예상
- 매크로 검사 장비 개발
레거시 공정이지만 반도체 공정 기술이 발달함에 따라 기존의 Macro 장비(가시광선 광원)의 요구 스펙도 상향되는 중. 하지만 기존 플레이어들이 이러한 시장 요구를 잘 못 따라가고 있음. 넥스틴의 Dark-field 기술을 활용하여 Macro 검사 장비 시장으로 매출을 확대하기 위해 올해 Macro 장비 기술 개발팀 설립
출처: <https://m.blog.naver.com/logkim2718/222605837588>
- 21년 하이닉스향으로 히타치 물량 전량 대체
- 22년 여름 AEGIS-III 장비 출시
- IRIS 장비에 대해 인텔이 성능 평가 방법을 찾았고 1~2월에 피드백 예정
- 중국 장비 회사와 내년 초 JV 설립 MOU 체결
- MACRO 검사장비 시장 진출
출처: <https://m.blog.naver.com/englhk/222607273719>
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